快科技11月4日音讯，俄罗斯现已揭露表明，自己正在研制光刻机，最快会在2024年有效果。

  依照俄罗斯工业和贸易部副部长Vasily Shpak的说法，2024年将开端出产350nm光刻机，2026年发动用来出产130nm制程芯片的光刻机设备。

  关于这样的行为，俄罗斯表明，现在全球只要两家公司出产此类设备日本尼康和荷兰ASML，而他们要改动这个格式。

  现在俄罗斯现已把握了运用外国制造设备的65nm技能，但无法出产光刻机。因为外国公司被制止向俄罗斯出口现代光刻设备，该国正在匆忙开发自己的出产设备。

  在这之前，圣彼得堡理工大学的研究人员开宣布了一种“国产光刻复合体”，可用于蚀刻出产无掩模芯片，这将使“处理俄罗斯在微电子范畴的技能主权问题”成为可能。

  据介绍，其间一种东西的本钱为500万卢布（当时约36.3万元人民币），另一种东西的本钱不知道。

  该设备由专业软件操控，可完成彻底自动化，随后的别的一台设备可直接用于构成纳米结构，但也能制造硅膜，例如用于舰载超压传感器。

  此外，俄罗斯大诺夫哥罗德战略开展组织发豪语，声称俄罗斯科学院旗下使用物理研究所将会跌破所有人眼镜，在2028年开宣布能够出产7纳米芯片的光刻机，还可打败ASML同种类型的产品。